PECVD和CVD设备中的空心轴磁流体馈通装置

将运动传递到真空腔室中

在PECVD和CVD设备中，薄膜的制备需要在真空腔室内实现精确的机械运动。空心轴磁流体馈通装置为此提供了一种方法。它是一种用于真空应用的磁流体旋转馈通装置。其核心机制是利用铁磁流体作为密封元件，在旋转轴周围形成动态的、气密的密封。该系统在不破坏密封完整性的情况下，将旋转运动传递到真空腔室中。

这类密封的基本概念起源于20世纪70年代。工程师们利用铁磁流体在旋转轴周围创建了液态O形环，并为首批商业版本申请了专利。四十多年来，设计和制造团队不断完善这项技术。可修改的馈通参数包括安装配置、所用铁磁流体的具体类型、轴承类型和位置以及轴径。这使得能够根据特定系统要求定制解决方案。

在高性能系统中的应用

PECVD和CVD系统是这些馈通装置的主要应用领域。该行业持续推动密封技术的边界，以满足不断变化的需求。在超高真空（UHV）环境中，一些系统采用先进的磁耦合技术替代流体。然而，对于许多标准和高真空CVD应用，磁流体馈通装置仍然是常见的选择。其空心轴设计特别适用于将电线或冷却管线等公用设施穿过旋转轴的中心。

选择磁流体馈通装置还是磁耦合驱动装置，通常取决于具体的真空度和扭矩要求。磁流体密封提供了一种经过验证的直接驱动解决方案。它们已经过数十年的工程设计，相关团队通常拥有至少十年的生产和应用一线专业经验。当标准产品不适用时，通常可通过与专家直接咨询获得定制解决方案。