2026-10-26 मूल लेख
सेमीकंडक्टर निर्माण में, कई प्रक्रियाओं के लिए वैक्यूम सील की आवश्यकता होती है। उद्योग रिपोर्टों में रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) और भौतिक वाष्प निक्षेपण (PVD) दोनों में उनके विशिष्ट कार्य का उल्लेख किया गया है। CVD के लिए, सील प्रतिक्रिया कक्ष में वैक्यूम बनाए रखती हैं। इससे वेफर पर एक समान रूप से पतली फिल्म बन सकती है। सील कक्ष के अंदर वेफर के घूर्णन को भी सक्षम बनाती हैं। PVD प्रक्रियाओं में, सील समान कार्य करती हैं। इनका उपयोग सटीक पतली फिल्म निक्षेपण के लिए आवश्यक नियंत्रित वातावरण बनाए रखने में किया जाता है।
इन सीलों का उपयोग बुनियादी सेमीकंडक्टर वेफर प्रसंस्करण से आगे तक फैला हुआ है। प्रलेखित अनुप्रयोग क्षेत्रों में सिंगल-क्रिस्टल सिलिकॉन भट्टियाँ शामिल हैं, जहाँ वे उच्च-तापमान प्रक्रियाओं में वैक्यूम अखंडता बनाए रखती हैं। इन्हें फ्लैट पैनल डिस्प्ले (FPD) उत्पादन के लिए प्रणालियों में भी एकीकृत किया जाता है, जो डिस्प्ले निर्माण के लिए संदूषण-मुक्त प्रक्रियाओं का समर्थन करती हैं। निक्षेपण प्रणालियों के भीतर, वे अक्सर घूर्णनशील, ऊँचाई-समायोज्य और झुकाव-समायोज्य सब्सट्रेट धारकों का एक घटक होती हैं। यह यांत्रिक लचीलापन सौर सेल, बैटरी और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में उपयोग की जाने वाली पतली फिल्मों के नवीन निर्माण के लिए आवश्यक है।