Was ändert sich, wenn eine neue magnetische Flüssigkeit in Dichtungen von CVD-Anlagen eindringt

Die Dichtungsherausforderung bei CVD und PECVD

Anlagen zur chemischen Gasphasenabscheidung und plasmaunterstützte CVD-Anlagen erfordern eine präzise rotierende Bewegung, die in eine Vakuumkammer übertragen wird. Dies erfordert eine zuverlässige rotierende Vakuumdichtung. Ferrofluid-Durchführungen, die magnetische Flüssigkeit als Dichtungsmechanismus verwenden, sind eine gängige Lösung. Sie müssen die Dichtungsintegrität in Hochvakuum aufrechterhalten, oft besser als 10^-9 mbar, und aktiven Gasumgebungen bei erhöhten Temperaturen standhalten. Historisch gesehen begrenzten Ausgasung und Fluidzersetzung bei hohen Temperaturen die Lebensdauer von Dichtungen in bestimmten CVD-Anwendungen.

Design und Anwendungsintegration

Das Gewindekörper-Design mit Mutternbefestigung bietet eine mechanische Schnittstelle zur Integration dieser Dichtungen in Reaktorsysteme. In der Halbleiterfertigung werden diese Dichtungen in Einkristall-Siliziumöfen und CVD-Systemen eingesetzt, um eine leckfreie Umgebung aufrechtzuerhalten. Sie werden auch in PVD-Anlagen zur Dünnschichtabscheidung und in der Flachbildschirmproduktion für kontaminationsfreie Prozesse verwendet. Das Design ermöglicht Wartung und Austausch, was wichtig ist, um die Ausfallzeit der Anlage zu minimieren.

Wir bieten eine Reihe von Durchführungen und Dichtungen an, die für diese anspruchsvollen industriellen Umgebungen entwickelt wurden.