新型磁流体进入CVD设备密封件时会发生哪些变化

CVD与PECVD中的密封挑战

化学气相沉积和等离子体增强CVD设备需要将精确的旋转运动传入真空腔室。这要求使用可靠的旋转真空密封。铁磁流体馈通件以磁性流体作为密封机制，是一种常见的解决方案。它们必须在高真空中保持密封完整性，通常优于10^-9 mbar，并能承受高温下的活性气体环境。过去，高温下的放气和流体降解限制了某些CVD应用中密封件的寿命。

设计与应用集成

螺母安装螺纹主体设计为将这些密封件集成到反应器系统中提供了机械接口。在半导体制造中，这些密封件用于单晶硅炉和CVD系统，以维持无泄漏环境。它们也应用于薄膜沉积的PVD设备和平板显示器生产中，以实现无污染工艺。该设计便于维护和更换，这对于减少设备停机时间非常重要。

我们提供一系列专为这些严苛工业环境设计的馈通件和密封件。