2026-09-05 Articolo originale
Le apparecchiature per deposizione chimica da vapore e CVD potenziato al plasma richiedono che un movimento rotatorio preciso venga trasmesso all'interno di una camera a vuoto. Ciò richiede una tenuta rotativa per vuoto affidabile. I passanti a ferrofluido, che utilizzano un fluido magnetico come meccanismo di tenuta, sono una soluzione comune. Devono mantenere l'integrità della tenuta in vuoti spinti, spesso migliori di 10^-9 mbar, e resistere ad ambienti con gas attivi a temperature elevate. Storicamente, il degassamento e la degradazione del fluido ad alte temperature limitavano la durata delle tenute in alcune applicazioni CVD.
Il corpo con filettatura di montaggio a dado fornisce un'interfaccia meccanica per integrare queste tenute nei sistemi reattore. Nella produzione di semiconduttori, queste tenute sono utilizzate in forni per silicio monocristallino e sistemi CVD per mantenere un ambiente privo di perdite. Sono inoltre impiegate in apparecchiature PVD per la deposizione di film sottili e nella produzione di display a pannello piatto per processi privi di contaminazione. Il design consente la manutenzione e la sostituzione, aspetto importante per ridurre al minimo i tempi di fermo dell'impianto.
Forniamo una gamma di passanti e tenute progettati per questi ambienti industriali impegnativi.