2026-09-05 Artikel Asli
Peralatan chemical vapor deposition dan plasma-enhanced CVD memerlukan gerakan rotasi yang presisi untuk ditransmisikan ke dalam ruang vakum. Hal ini menuntut seal vakum rotasi yang andal. Feedthrough ferrofluid, yang menggunakan fluida magnetik sebagai mekanisme penyegelan, merupakan solusi umum. Alat ini harus menjaga integritas seal dalam vakum tinggi, seringkali lebih baik dari 10^-9 mbar, dan tahan terhadap lingkungan gas aktif pada suhu tinggi. Secara historis, outgassing dan degradasi fluida pada suhu tinggi membatasi umur seal pada aplikasi CVD tertentu.
Desain bodi ulir pemasangan mur menyediakan antarmuka mekanis untuk mengintegrasikan seal ini ke dalam sistem reaktor. Dalam manufaktur semikonduktor, seal ini digunakan pada tungku silikon monokristal dan sistem CVD untuk menjaga lingkungan bebas kebocoran. Seal ini juga diterapkan pada peralatan PVD untuk deposisi film tipis dan pada produksi layar panel datar untuk proses bebas kontaminasi. Desain ini memungkinkan perawatan dan penggantian, yang penting untuk meminimalkan waktu henti alat.
Kami menyediakan berbagai feedthrough dan seal yang dirancang untuk lingkungan industri yang menuntut ini.