2026-09-05 บทความต้นฉบับ
อุปกรณ์ Chemical Vapor Deposition และ Plasma-Enhanced CVD จำเป็นต้องส่งผ่านการเคลื่อนที่แบบหมุนที่แม่นยำเข้าไปในห้องสุญญากาศ ซึ่งต้องใช้ซีลสุญญากาศแบบหมุนที่เชื่อถือได้ Ferrofluid feedthrough ซึ่งใช้ของเหลวแม่เหล็กเป็นกลไกการซีล เป็นทางออกที่นิยมใช้ อุปกรณ์เหล่านี้ต้องรักษาความสมบูรณ์ของการซีลในสุญญากาศสูง โดยมักดีกว่า 10^-9 mbar และทนต่อสภาพแวดล้อมของก๊าซที่มีปฏิกิริยาที่อุณหภูมิสูง ในอดีต การปล่อยก๊าซและการเสื่อมสภาพของของเหลวที่อุณหภูมิสูงได้จำกัดอายุการใช้งานของซีลในงาน CVD บางประเภท
การออกแบบตัวเรือนเกลียวแบบน็อตช่วยให้มีอินเทอร์เฟซเชิงกลสำหรับผสานรวมซีลเหล่านี้เข้ากับระบบรีแอกเตอร์ ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ซีลเหล่านี้ถูกใช้ในเตาหลอมซิลิคอนผลึกเดี่ยวและระบบ CVD เพื่อรักษาสภาพแวดล้อมที่ไม่มีการรั่วไหล นอกจากนี้ยังถูกนำไปใช้ในอุปกรณ์ PVD สำหรับการเคลือบฟิล์มบาง และในการผลิตจอแสดงผลแบบแบนสำหรับกระบวนการที่ไม่มีการปนเปื้อน การออกแบบนี้ช่วยให้สามารถบำรุงรักษาและเปลี่ยนทดแทนได้ ซึ่งสำคัญต่อการลดเวลาหยุดทำงานของเครื่องมือ
เราจัดหาชุด feedthrough และซีลที่ออกแบบมาสำหรับสภาพแวดล้อมทางอุตสาหกรรมที่ต้องการความทนทานเหล่านี้