2026-09-05 Artigo Original
Equipamentos de deposição química de vapor e CVD aprimorado por plasma exigem movimento rotativo preciso transmitido para uma câmara de vácuo. Isso demanda uma vedação rotativa de vácuo confiável. Passantes de ferrofluido, que utilizam fluido magnético como mecanismo de vedação, são uma solução comum. Eles devem manter a integridade da vedação em alto vácuo, frequentemente melhor que 10^-9 mbar, e resistir a ambientes de gases ativos em temperaturas elevadas. Historicamente, a liberação de gases e a degradação do fluido em altas temperaturas limitavam a vida útil da vedação em certas aplicações de CVD.
O design do corpo com rosca de montagem por porca fornece uma interface mecânica para integrar essas vedações em sistemas de reatores. Na fabricação de semicondutores, essas vedações são usadas em fornos de silício monocristalino e sistemas CVD para manter um ambiente livre de vazamentos. Também são aplicadas em equipamentos PVD para deposição de filmes finos e na produção de displays de painel plano para processos livres de contaminação. O design permite manutenção e substituição, o que é importante para minimizar o tempo de parada do equipamento.
Fornecemos uma linha de passantes e vedações projetados para esses ambientes industriais exigentes.